重生1993 第867章 星耀科研所

星耀科研所正式挂牌运营。

倪广南带着之前的团队，开始了又一轮芯片研发的工作。

而这一次，倪广南仍旧坚持发展自主芯片和操作系统，并且对外不止一次宣称，呼吁上头和各大企业支持linux在华夏的发展。

倪广南所要做的，便是要基于linux发展自主操作系统，建立华夏自主、完整的软件产业体系。

对于这一点，楚天耀当然是十分支持。

而在他的心头，还有着另外一项计划。

那就是解决国产光刻机之痛。

光靠华夏现在的科研力量，根本无法实现自主研发光刻机，所以楚天耀心中的想法，便是花钱买。

而问题的原点，又回到了资本上。

他不得不承认，自己如今又缺钱了。

所以星耀集团必须早日上市。

不过值得楚天耀高兴的是，星耀集团集团化的事已经尘埃落定，并且ipo申请书也正式通过。

兴许是因为花大钱搞科研所的事，为楚天耀引得了不小的名声，星耀集团在内的上市的事并没有遇到什么困难，甚至异常的顺风顺水。

1996年11月27日。

星耀集团正式在深交所上市。

因为有着之前科研所的声势造势，以及良好的财报，所以星耀集团一经上市，股价便不停的上涨，甚至接连出现了好几日的涨停板。

星耀集团的股价，从一开始的一块三毛钱，一路上涨至了八块九毛，并且股价还在不断的往上涨。

毕竟是打着科技名头上市的企业，楚天耀制造出来的噱头可不少，再加上星耀集团旗下几大公司的漂亮财报，一经发布便早已惹得众多投资者纷纷重视。

而反观同样是披着科技名头上市的企业，联想集团在港上市，如今的股价竟然也只是在六块到八块之间波动。

二者竟然相差无几。

这倒是让不少人为之咂舌。

而联想集团股价上不去，柳传智也有些头疼，甚至将怒火迁移到了星耀集团上头。

他认为正是因为星耀集团披着科技企业的名头上市，影响了同为科技企业的联想集团。

于是乎，在柳传智的示意下，坊间开始出现了不少针对星耀集团的负面新闻。qqxδnew

诸如星耀集团成立的科研所，只是为了抬升股价，倪广南等人皆是为了利益，博取大众的眼球。

毕竟，细数星耀集团旗下企业，除了星耀科技之外，其他的还真跟科技两个字不沾边。

也正是因为如此，这些负面新闻倒是起到了一些作用。

眼看星耀集团股价正准备冲破九块时，势头忽然减慢了。

深市。

星耀集团总部大楼。

楚天耀正计划着如何实现自己的光刻机计划。

他眼下有几条路可以走。

一是西方的技术禁令还未彻底实行，他眼下还能通过资金从阿麦斯高价挖来人才，自主研发光刻机。

但没有专利，研发之路可是漫长无期。

还有一条路，那便是前往台岛。

台积电手下有成熟的半导体研发技术，楚天耀没记错的话，台积电日后甚至还能掌握euv光刻机技术，若是他提前出手与台积电合作，说不定能趁机分一杯羹。

“只是，这台积电如今发展势头良好，又怎么可能平白无故跟我合作，再说我就这么去，意图也太明显了。”

办公室里，楚天耀托着下巴，陷入了思考当中。

他之所以能有今日，并非是因为他天生就比别人聪明，而是楚天耀作为重生者，深度掌握了三十年后的大势。

光刻机可是高端制造企业的命门，所以他才会如此看重。

而眼下正是各国光刻机发展最为初期的时候，这时候他不想办法弯道超车，提前入场，只怕再过几年等米国等国醒悟过来，开始搞技术封锁，那到时候对华夏而言，才是重大打击。

“只是，光刻机技术可是核心，阿斯麦虽然不错但眼下已经被米国把控，再过几年应该就能生产出高端光刻机了，拿到他们的技术显然是不可能了，剩下的企业里，还能做出光刻机的……”

自言自语之时，楚天耀的目光忽然看到了自己桌上的一本杂志。

那是一本宣传相机的杂志，封面上便是来自岛国尼康的相机。

“对了，我怎么把他给忘了。”

楚天耀眼前一亮，这才想起自己差点忘记了一件极其重要的事。

“仔细算算时间，眼下正是157nm光源干刻法与193nm光源湿刻法的技术之争的开始，而尼康公司也正是因为押错了宝，所以才跌落神坛。”

楚天耀神色有些激动，正是因为他重生而来的记忆，让他又一次敏锐的察觉到了一次巨大的机缘。

说起这157nm光源干刻法与193nm光源湿刻法，其实只是光刻机两种不同技术。

放眼九十年代，光刻机的光源波长还被卡死在193nm，成为了全产业的面前的一道难关。

只有将光源波长做的越短，芯片的精度才会越高。

而率先研发出高精度芯片的企业，注定会领跑整个行业，将其他企业牢牢地摔在身后。

而针对这项技术，市面上出现了两种方法。

那就是157nm光源干刻法与193nm光源湿刻法。

尼康等公司主张在前代的技术基础上，采用157nm的f2激光，走稳健道路。

而新生的euvllc联盟，则押注于更激进的极紫外技术，用仅有十几纳米的极紫外光，刻十纳米以下的芯片制程。

但不管是这两种技术中的哪一种，技术要求都极其不易。

然而在这个时候，台积电一个叫做林本间的鬼才工程师出现了。

降低光的波长，光源出发是根本方法，高中学生都知道，水会影响光的折射率。

在透镜和硅片之间加一层水，原有的193nm激光经过折射，不就直接越过了157nm的天堑，降低到132nm了！

林本间拿着这项沉浸式光刻方案，兴奋的跑去了米国、德国以及岛国，游说各家半导体巨头。

然而他的方案最终并没有得到认可，甚至还有不少人觉得这家伙就是来搞事的，甚至不止一次警告台积电。

毕竟这只是理想情况，在精密的机器中加水构建浸润环境，既要考虑实际性能，又要操心污染。如果为了这一条短期替代方案，耽误了光源研究，吃力不讨好只是其次，被对手反超可就不好看了。

所以，作为大厂的尼康，选择了在157nm上一条道走到黑，进行光刻机的技术突破。

而在这个时候，也正是阿斯麦公司登场的时候。

一个位于丹麦，只有几十人团队的小角色。

谁都没有想到，阿斯麦竟然和林本间一拍即合，二者赌了一波大的，竟然真的在几年后研发出了第一台样机。

也正是因为先人一步，他们成功拿下了ibm和台积电等大客户的订单，一跃成为了光刻机大厂。

然而，尼康虽然靠着技术突破，也研发出了干式微影157nm技术的成品，但毕竟被阿斯麦抢了风头，更何况波长还略落后于对手，等到一年后又完成了对浸润式技术的追赶，客户却已经不承认“老情人”，毕竟光刻机又不是小朋友玩具，更替要钱，学习更要成本。

至此，尼康在光刻机舞台上，正式黯然离场。